该厂为8英尺晶圆生产方式线搭配的超去离子水程序，一天到晚生成含硅废渣150吨。废渣中虽无巨资属，但硅水分含量高易积垢，且内阻率需提高18MΩ·cm也能使用。增加了处置方法始终无法达到新修订的《智能电子工业化水感染物污染物细则》（GB39731-2020）特别污染物标准值。 化工废水组成成分特征 重要危害物 ：溶液硅（200-300mg/L）、颗粒物硅（颗粒直径0.1-1μm） 特种符合要求 ：TOC<10μg/L，硼含碳量<5μg/L 水质量形态 ：低导电率（<50μS/cm）但硅无机化合物形状多样化 进行处理工艺技术注意事项 全新运用"梯级膜分离处理+电去阴离子"组合起来加工制作工艺 ： 微滤预治理 ：1μm陶瓷图片膜手机拦截大顆粒硅，通量保证80LMH 亚铁离子互转光敏树脂 ：D201大孔不饱和树脂选用性溶解硅酸原子 三级RO整体 ：一、段回收分类处理率60%，二是段主要包括高脱硼膜开关元件 EDI电去阴阳离子 ：感应电流孔隙率2A/m²，一直出掉的残留物正离子 太阳光的紫外线臭氧消毒 ：254nm紫外光线的用药量40mJ/cm² 技木工作亮点 研发专属阻硅剂（有机质胺类组合物），减慢膜破坏周期性3倍 EDI板块不断创新流道设计制作，硅清除率升级至99.8% 在线视频硅深入测试仪（预估范畴0.1-500μg/L）推动精确操作 运营成效显著 经三是方查测： 总硅从280mg/L高于0.05mg/L 硼含水量从8μg/L高于0.3μg/L 系统性出售率从原40%不断提升至68% 膜更換生长期延时至5年，年运作成本低大大减少35%